利用该模型，金被智研究了镁的不同晶面的腐蚀行为并发现：镁基面的耐蚀性优于柱面的耐蚀性，这是因为前者的空位形成能和析氢反应能垒较低。

（2，融领人正人工4）光激发单线态激子的转移途径：LE→1CT（2）和LE→DSE（4）。PMHJ中减少的D-A混合减轻了D-A接触处的非双元复合，域批演残限制了弛豫的机会，从而在不牺牲激子解离效率的情况下抑制了T1的形成。

（8）3CT→T1弛豫，取代清洗其中进一步的T1→S0弛豫可以通过三重态电荷湮灭发生，导致光载流子的永久损失。金被智共混物的T1信号：~1440 nm。融领人正人工840/930/1,600 纳米（T9SBN-F）。

然而，域批演残来自于光载流子重组的电荷转移态的自旋特性允许在这些异质结处弛豫到能量最低的三态激子(T1)，导致光电流损失。取代清洗箭头显示了PMHJ共混物与BHJ共混物相比T1抑制的趋势。

金被智香港城市大学FrancisR.Lin和AlexK.-Y.Jen和南京大学张春峰教授为论文的共同通讯作者。

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